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5nm技术指日可待,EUV技术有重磅突破

本文摘要:全球一号代工厂台积电宣告了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次用于7nmEUV工艺已完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。

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全球一号代工厂台积电宣告了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次用于7nmEUV工艺已完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。

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